[VIP第1年] 指数:3
该公司的晶体生长设备特别是单晶硅生长炉销售形势较好，主要是单晶光伏的技术路线获得认可，随着下游厂商的扩产，单晶的渗透率也逐步提升，带来对单晶硅生长炉的需求增加，该类产品收入已经占营业收入的81%。该公司主营业务伴随国内光伏产业的上升发展，给主营业务收入和利润带来增长，近两年的增长率均在80%以上，另外，其毛利率水平和净利率水平也基本维持稳定。上海微电子装备有限公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，该公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。该公司主要产品包括：600扫描光刻机系列—前道IC制造基于先进的扫描光刻机平台技术，提供覆盖前道IC制造90nm节点以上大规模生产所需，包含90nm、130nm和280nm等不同分辨率节点要求的ArF、KrF及i-line步进扫描投影光刻机。该系列光刻机可兼容200mm和300mm硅片。500步进光刻机系列—后道IC、MEMS制造基于先进的步进光刻机平台技术，提供覆盖后道IC封装、MEMS/NEMS制造的步进投影光刻机。该系列光刻机采用高功率汞灯的ghi线作为曝光光源，其先进的逐场调焦调平技术对薄胶和厚胶工艺，以及TSV-3D结构等具有良好的自动适应性。进口半导体设备需要进行海关申报。上海专业的半导体设备进口报关打包运输
全球真空设备市场规模2020年约150亿元。根据Semi预计，2019-2021年全球半导体设备市场销售规模可达依576/608/668亿美元，每年增长6%-10%。中国半导体设备销售市场受益5G推动创历史新高，预计2020~2021增速可达10%—16%，快于全球平均增速，据此估算20年中国半导体设备销售市场规模约160亿美元。按照真空设备约占整个FAB厂半导体投资的3%-4%测算，2020年全球半导体真空设备市场规模将达128-170亿元，中国半导体真空设备市场规模约34-45亿元。考虑到新一代3dNAND/EUV光刻技术对真空环境提出了更高要求，对真空设备需求更大，半导体真空设备在整个FAB厂的投资占比也有望进一步提升。从晶圆厂产能测算，全球/中国大陆/中国台湾真空泵20年市场规模超150/60/30亿元。以12寸晶圆生产线为例，每。我们据此测算全球和国内真泵市场规模情况。竞争格局：半导体真空泵当前由国外厂商主导，国产厂商市占率不到5%。全球半导体用真空泵领域由欧洲、日本企业主导，国产厂商市占率不到5%。干式真空泵的生产需要较高的精密加工技术，同时需要对零部件转子材料性能有足够的研发积累。目前全球半导体用真空泵领域三家公司占据主要市场份额导，分别是Edward（爱德华）、Ebara。上海有名的半导体设备进口报关流程确保进口的半导体设备符合国家质量标准和安全要求。
CCP刻蚀机主要用于电介质材料的刻蚀工艺，如逻辑芯片工艺前段的栅侧墙和硬掩模刻蚀，中段的接触孔刻蚀，后段的镶嵌式和铝垫刻蚀等，以及在3D闪存芯片工艺(以氮化硅/氧化硅结构为例)中的深槽、深孔和连线接触孔的刻蚀等。ICP刻蚀机主要用于硅刻蚀和金属刻蚀，包括对硅浅沟槽(STI)、锗(Ge)、多晶硅栅结构、金属栅结构、应变硅(Strained-Si)、金属导线、金属焊垫(Pad)、镶嵌式刻蚀金属硬掩模和多重成像(MultiplePatteming)技术中的多道工序的刻蚀等。另外，随着三维集成电路(3DIC)、CMOS图像传感器(CIS)和微机电系统(MEMS)的兴起，以及硅通孔(TSV)、大尺寸斜孔槽和不同形貌的深硅刻蚀应用的快速增加，多个厂商推出了专为这些应用而开发的刻蚀设备。随着工艺要求的专门化、精细化，刻蚀设备的多样化，以及新型材料的应用，上述分类方法已变得越来越模糊。除了集成电路制造领域，等离子体刻蚀还被用于LED、MEMS及光通信等领域。、刻蚀机行业发展趋势及竞争格局随着芯片集成度的不断提高，生产工艺越来越复杂，刻蚀在整个生产流程中的比重也呈上升趋势。因此，刻蚀机支出在生产线设备总支出中的比重也在增加。而刻蚀机按刻蚀材料细分后的增长速度。
国内集成电路12英寸、28纳米制程主要设备已成功进入量产线，具体包括薄膜沉积设备、CMP抛光设备、刻蚀机、清洗设备、离子注入机等，其中，刻蚀机已具备一定的国际竞争力。1）光刻机:ASML垄断超市场光刻机为大规模集成电路设备。光源作为光刻机的构成，很大程度上决定了光刻机的工艺水平。光源的变迁先后经历:(a)紫外光源(UV:UltravioletLight)，波长小缩小至365nm;(b)深紫外光源(DUV:DeepUltravioletLight)，其中ArFImmersion实际等效波长为134nm;(c)极紫外光源(EUV:ExtremeUltravioletLight)，目前大部分比较高工艺制程半导体芯片均采用EUV光源。竞争格局:全球为荷兰ASML，其他包括日本Nikon、日本Canon等。国内从事集成电路光刻机生产制造的企业主要为上海微电子(SMEE)与中国电科(CETC)旗下的电科装备。关于二手半导体设备报关注意事项 。
俗话说：“科技是生产力”。中国的传统重工业向新兴电子产业的转变和拓展，期间一定需要大量的理论知识以及生产制造设备上的支持。对于半导体行业中可以简单分为：前端的晶圆制造和后道的封装测试1晶圆制造：单晶炉/多晶炉、硅棒研磨机、晶圆切片机、晶圆倒角机、晶圆研磨机、扩散炉、化学/物相沉积设备、涂胶显影机、光刻机、刻蚀机、离子注入机、溅射台。2封装测试：切割机、固晶机、焊线机、引线键合装置、测试机、探针台。本人专注于半导体设备、新旧仪器仪表的国际物流清关：6-8-12寸新/旧半导体设备前ASML/尼康/佳能-光刻机Evatech/DienerPlasma/NANOMASTER-等离子蚀刻机Dainippon-涂胶显影机后Disco/TSK/Daitron-切割机ASM/CanonMachinery/Panasonic/TSK-固晶机ASM/K＆S/Panasonic/Shinkawa-焊线机Advantest/UNITEST-测试机TEL/Cascade/KarlSuSS-探针台材料硅片/硅棒/硝酸盐/IC标准液/六羰铬/液氧/等我司新旧仪器仪表、机电设备、半导体材料进口，办理旧设备进口商检备案，国外CCIC检验，代付外汇/信用证，提供全球上门提货，真空包装、打木箱，海空运以及国内外气垫车运输及无尘车间搬运，并且在不同口岸的海关/商检有良好的关系。半导体设备进口报关是一个相对复杂的过程，需要企业认真对待。上海专业半导体设备进口报关常见问题
半导体设备进口报关将越来越自动化，海关将采用更多的自动化设备和技术，提高报关效率和准确性。上海专业的半导体设备进口报关打包运输
新旧半导体设备进口报关办理机电证、CCIC等需一般资料是：1、申请表2、申请报告（报告详细写明企业的基本情况、生产情况、进口机电设备的用途、生产制造日期、使用年限、现在状况，如生产日期较早必须作出特殊情况说明）3、机电设备检测说明，必须出具国家检验机构或机电设备供应商提供的检测报告。4、企业的营业执照、批准证书（外商投资企业须提供）5、设备清单（含原产地、品牌、型号、货值、生产年份、使用年限等）6、机电设备彩色照片7、工作联系单新旧半导体清关一般所需资料：A进口法定检验B进口机电许可证(旧)C进口旧机电产品装运前检验证书(我国九个驻外商检机构:日本、香港、不莱梅、马赛、伦敦、加拿大、欧洲、北美、西班牙）D进口口岸检疫局办的进口旧机电产品备案申请书E如进口的机器是印刷机就需要到国家总暑办理印刷经营许可证F如产品税号涉及到国家强制认证的需提供3C证书G如进口国为美日韩欧盟等国家的还需提供IPPC。上海专业的半导体设备进口报关打包运输
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